光刻機是生產製造晶片的必要裝置，全球範圍內有四家企業可以獨立生產製造光刻機，但先進的DUV光刻機等，僅有ASML能夠研發製造。

資料顯示，ASML的DUV光刻機和EUV光刻機幾乎佔領了中高階市場，而EUV光刻機更是成為各大晶圓代工廠搶購的物件。

國內廠商早就全款訂購的EUV光刻機，但由於ASML不能自由出貨，結果遲遲沒有到貨安裝。

晶片等規則被修改後，光刻機的重要性再次成為焦點。餘承東都表示華為可以研發設計先進的晶片，但卻無法生產製造，主因就是缺少先進的光刻機等裝置。

在這樣的情況下，華為全面進入晶片領域內，不僅自研更多種類的晶片，還要在終端製造和新材料方面實現突破。

但從2021年開始，就不斷有國產先進光刻機要到來的訊息，如今，更是有外媒直接表示，國產先進光刻機確認要來了。

根據外媒的報道，啟爾機電在浸潤系統上取得了重大突破，其研發製造的第八代高階電路裝置實現了對液體溫度高精度控制，誤差在正負0。001度。

要知道，浸潤系統是生產製造ARFi光刻機的核心繫統之一，該型號光刻機也屬於DUV光刻機的一種，並且是高階型號。

因為DUV光刻機主要分為KRF、ARF和ARFi，前兩者的波長分別是248nm和193nm，而後者的波長則是134nm，而波長越短則意味光刻機越先進。

當然，除了浸潤系統外，之前國望光學也宣佈開始進行裝置匯入階段，要知道，國望可是國產光刻機曝光系統和鏡頭的核心供應商。

再加上，中試基地已經正式啟動，這就是為光刻機大量批次生產製造前的準備階段，先進行小規模生產，修正問題，然後進行大規模批次生產製造。

也正是因為如此，外媒才說國產先進光機確認要來了，畢竟，多個核心問題都已經被攻克了。

其實，在外媒如此表態之前，預兆都已經有了。

例如，ASML積極行動，今年第一季度就向國內廠商提供23臺光刻機等裝置，加速向國內廠商出貨，主要都是DUV光刻機等。

另外，ASML正式決定擴大在國內研發中心的規模，擴產200名研發人員，下一步有望在國內建設光刻機維修中心。

因為ASML總裁之前曾表示，國產裝置物美價廉，上市後必然會進一步ASML的市場，倘若持續不能自由出貨，未來10年或退出中國市場。

而華為方面在今年早些時候也公開表示，華為不會自主生產製造晶片，而是依賴國內等供應商以及其它合作伙伴，因為晶片產業鏈過於龐大，不是一個廠商可以承擔的。

同時，華為還明確表示，晶片等規則被修改多年，很多企業不能自由出貨，這已經在加速企業打造非美技術的晶片產業鏈，不出三五年就會實現突破。

從這一點預兆來看，外媒說國產先進光刻機就要來了，也並非擴大。

最後，不要小看即將到來的國產AFRi光刻機，雖然其僅僅是28nm節點，但可以生產製造包含28nm、14nm等多種先進製程工藝的晶片。

另外，突破28nm節點後，掌握7nm節點也僅僅需要幾年的時間，因為光源、曝光系統和浸潤系統在28nm節點和7nm節點相差不大，ASML當年也僅用5年時間。

也就是說，不出幾年時間，國內廠商也能夠實現對7nm節點的光刻機，晶片問題也將逐漸得到解決。對此，你們怎麼看，歡迎留言、點贊、分享。