近日，華為哈勃科技再次出手，投資了一家半導體產業公司。

企查查資訊顯示，6月2日，北京科益虹源光電技術有限公司（以下簡稱“科益虹源”）工商資訊發生變更，其中註冊資本由1。2億元增至2。02億元，增幅68%，同時新增哈勃科技和徐州光遠股權投資合夥企業（有限合夥）為股東。

△Source：企查查

工商資訊顯示，目前，科益虹源的大股東和實際控制人均為中科院研究所，持股26。61%，而哈勃科技持股比例為4。76%，為第七大股東。

△Source：企查查

據悉，科益虹源由中國科學院微電子所、亦莊國投、國科科儀等於2016年7月共同出資成立，專注於準分子鐳射器及光電技術產品等的研製、生產、銷售及服務，是國內少數具備高階準分子鐳射技術自主研究和產品化能力的公司，其系列產品填補了國內市場空白。

北京亦莊此前報道，作為北京亦莊開發區光刻機零部件技術創新中心建設的牽頭單位，科益虹源自主研發的光刻用準分子鐳射系統打破了美國和日本的長期壟斷地位。

國家財經週刊曾發文稱，上海微電子將在2021年交付的28nm光刻機，由上海微電子負責光刻機設計和總體整合，北京科益虹源提供光源系統，北京國望光學提供物鏡系統，國科精密提供曝光光學系統，華卓精科提供雙工作臺，浙江啟爾機電提供浸沒系統。

資料顯示，哈勃科技作為華為旗下的投資公司，自2019年成立以來，對外投資的半導體企業已達數十家，涵蓋模擬晶片、碳化矽材料、功率晶片、人工智慧晶片、車載通訊晶片、聯結器等當下半導體產業熱門產品線領域。

如今，哈勃科技成為科益虹源的股東之一，這或許意味著，華為的半導體產業版圖再次擴張，延伸至光刻領域。

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文：全球半導體觀察整理；封面圖源：拍信網

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