三星3nm晶圓量產面世!26億簽下最新光刻機
導讀:三星電子於6月30日宣佈,全球首先量產採用環柵 (GAA) 電晶體架構的3nm工藝節點,同時韓媒稱三星與ASML就採購高數值孔徑 (NA) EUV光刻裝置已簽署協議...
時間:2022-06-30
導讀:三星電子於6月30日宣佈,全球首先量產採用環柵 (GAA) 電晶體架構的3nm工藝節點,同時韓媒稱三星與ASML就採購高數值孔徑 (NA) EUV光刻裝置已簽署協議...
時間:2022-06-30
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