光刻機比原子彈還稀有,全球僅2個國家掌握其技術,製造它太難了
首先就是光刻機最重要的核心功能——光源銘刻,這意味著光刻機需要一款精度達到奈米級的鐳射發射器,目前唯有美國Cymer公司具備生產深紫外線光源的能力...
時間:2023-01-02
首先就是光刻機最重要的核心功能——光源銘刻,這意味著光刻機需要一款精度達到奈米級的鐳射發射器,目前唯有美國Cymer公司具備生產深紫外線光源的能力...
時間:2023-01-02
我們現在唯一能做的就是不氣餒不放棄,繼續在光刻機的研製道路上不斷前進,堅信終有一日可以突破技術的壁壘,做到領先全球...
時間:2022-11-20
可見ASML的極紫外EUV光刻機使用的就是由Cymer公司研發的第三代光源,該光源有兩大特點:第一,功率高,250W...
時間:2022-02-21
這裡就給佳能打20分,最高製程保留在90nm,佳能比較聰明早早的放棄了光刻機的研發,因為投入太大,也吸取了尼康的教訓,技術不好沒市場虧損,技術太好被打壓還是很難...
時間:2020-09-25
寬博士獨家領讀《光刻巨人》,回顧光刻機和阿斯麥的歷史,總結荷蘭人的四大核心競爭力,攻堅技術戰,只有知己知彼,方能百戰百勝,展望未來,讓有志之士可以得窺強者之道,學習如何幫助企業突破枷鎖實現發展...
時間:2022-10-14
時間:2022-11-10
時間:2022-10-24
時間:2020-05-22
時間:2022-08-01
時間:2022-08-01
但是,我國卻找到了能夠繞開光刻機生產晶片的技術,並生產出來了冰刻機...
時間:2022-07-25
時間:2022-07-24
時間:2022-07-14
時間:2022-07-09
他指出,與現有的EUV系統相比,High-NA EUV微影裝置預計將能在減少曝光顯影次數的情況下,實現2奈米以下邏輯晶片的關鍵特徵圖案化...
時間:2022-06-28
他指出,與現有的EUV系統相比,High-NA EUV微影裝置預計將能在減少曝光顯影次數的情況下,實現2奈米以下邏輯晶片的關鍵特徵圖案化...
時間:2022-06-28
33 NA EUV 光刻機的同時,ASML 也在衝刺研發 0...
時間:2022-06-28
ASML是在2019年的年報中,披露他們正在研發下一代極紫外光刻機的,計劃在2022年年初開始出貨,2024/2025年大規模生產...
時間:2020-03-17
時間:2022-06-23
光刻機是生產製造晶片的必要裝置,全球範圍內有四家企業可以獨立生產製造光刻機,但先進的DUV光刻機等,僅有ASML能夠研發製造...
時間:2022-06-16