數碼DUV光刻機中場戰事:當年日企封殺、客戶嫌棄,如今卻是造芯主力首先,需要明確一點,關於“28nm光刻機”的說法不嚴謹,雖然很多人這麼叫,其實際指的是可以被用於28nm晶片製造的光刻機,現在終於可以給出一個明確定義:採用193nm氟化氬鐳射器作為光源使用掩膜版微縮投影技術結合浸潤系統實現134nm光刻...時間:2022-08-01標籤:光刻機 光刻 DUV 193nm ASML
數碼DUV的中場戰事:所謂“28nm光刻機”再度火熱,這究竟是何物?首先,需要明確一點,關於“28nm光刻機”的說法不嚴謹,雖然很多人這麼叫,其實際指的是可以被用於28nm晶片製造的光刻機,現在終於可以給出一個明確定義:採用193nm氟化氬鐳射器作為光源使用掩膜版微縮投影技術結合浸潤系統實現134nm光刻...時間:2022-08-01標籤:光刻機 光刻 DUV 193nm ASML