近段時間我們心繫著我國民營企業華為，因為在華為近幾年的發展之中，它給我們帶來了很多的驚喜卻也默默嚥下了很多的“委屈”。現如今華為即將面臨著更大的危機，我們又怎能不心疼呢？好在我國各行各業在華為將要面臨險境的時候，都伸出了援助之手，並且我國消費者們都在支援著華為。

近段時間我國作為華為晶片領域後援的中芯國際傳來好訊息，現如今中芯國際的N+1晶片製程工藝已經逼近7nm晶片製程工藝水準！並且現如今我國在半導體和晶片領域中都極為重視，尤其是晶片領域中的發展，我國兩大國有基金會在近段時間向我國中芯國際提供鉅額注資，讓中芯國際能夠勇敢地在晶片領域中向前衝。而現如今我國晶片領域和半導體領域發展勢頭都如此好的情況下我們距離臺積電還遠嗎？

現如今雖然中芯的N+1晶片製程工藝已經逼近臺積電、三星的7nm製程工藝，但是我們的N+1、N+2還未完全成熟，因此我們距離臺積電還是有一定的距離的。但是我們也不必灰心，因為我國在晶片領域中的技術發展速度極為迅猛。在中芯國際梁孟松的帶領下，中芯國際僅用了300天的時間，就成功讓中芯國際讓28nm技術進化為了14nm製程工藝，並且還將14nm晶片的良品出現機率從3%增長到了95%，這給予了我們極大程度的信心。

雖然現如今我國14nm晶片製程工藝和三星、臺積電的製程工藝還有著兩三代的距離，但是我國N+1、N+2已經在奮力追趕7nm製程工藝。帶領中芯國際300天是實現28nm晶片到14nm跨域的中芯國際CEO梁孟松也在前段時間正式宣佈中芯國際正在全力進行N+1、N+2製程工藝的研發，並且現如今已經到了客戶匯入產品認證階段。值得一提的是N+1製程工藝晶片相較於14nm製程工藝晶片有著20%的效能漲幅，功耗下降了57%，邏輯面積和Soc面積分別縮小了63%和55%。我國N+1工藝和7nm工藝也十分的相似，但在效能上稍有不同，因為我國N+1製程工藝的效能提升僅有20%，市場基準提升是35%，這其實是因為我國N+1製程工藝晶片，面向的是低功耗，而我國N+2才將會是面向高階的晶片製程工藝。

相信在不遠的未來中，我們能夠看到我國華為和其的夥伴們能夠在世界科技舞臺中共同騰飛！對此你有什麼看法嗎？