前幾天，美國修改產品出口規則，規定華為不得使用美國的軟體、技術，不得利用美國的裝置生產晶片。這一新規目的是切斷華為全球晶片供應鏈，達到遏制華為5G發展的目的。

自從華為在5G行業的發展嶄露頭角之後，美國不止一次對華為出手，其出手的著力點自然是放在晶片行業。畢竟，當下我國的晶片發展較西方國家相比還是有不小差距。

但其實，晶片的生產過程相當複雜，設計、製造、刻蝕、測試、封裝，每一個步驟對於技術的要求都非常的苛刻。華為海思的崛起，保證了我國在晶片設計方面沒有阻礙。在晶片製造行業，臺積電、中芯國際也具備不錯的製作工藝。因而，對於中國來說，晶片發展最大的阻礙在於光刻機。

光刻機最核心的部件是鏡頭以及鐳射光源，然而遺憾的是，中國在這兩項技術上起步晚，相比西方國家有著顯著差距。好在，雖然說中國在光刻機的兩項核心技術上起步較晚，但發展速度卻非常可觀。2016年，上海微電子研發成功了90nm精度的光刻機，意味著中國的光刻機研發進入了全新的階段。

而上海微電子作為中國唯一的光刻機巨頭，也被寄予極大希望。據相關資料顯示：上海微電子裝備有限公司成立於2002年，主要致力於大規模工業生產的投影光刻機研發、生產、銷售與服務。雖然說上海微電子目前在光刻機方面的發展，還有很長一段時間的路要走，但是卻也在全力追趕荷蘭ASML。

據最新訊息報道，上海微電子預計在今年12月下線首臺採用ArF光源的可生產11奈米的SSA800/10W光刻機，倘若使用華卓精科工作臺的套刻精度指標優於1。7奈米，則該光刻機有生產7納米制程的潛力。

即便當下國內的技術水平無法量產7nm的晶片。但是上海微電子能夠上線生產7nm工藝製程晶片的光刻機，對於我國的晶片行業發展來說，也有著里程碑式的意義。

值得一提的是，上海微電子作為大陸光刻裝置的龍頭企業，在國家科技部和上海市政府共同推動下，近年來的發展勢頭相當猛烈。據悉，上海微電子截至2018年底，已經坐擁2400項專利，公司的競爭力在不斷提升。

對於上海微電子的發展前景，你怎麼看呢？

文/不想翻身的鹹魚 稽核/諦林