最近這段時間，我們時常可以看到一些關於量子晶片的訊息，尤其是前一陣子華為公佈的，關於量子晶片的專利，有不少人認為量子晶片可以繞開光刻機，如果我們發展的好，那麼在晶片領域，我們極有可能擺脫被美國製裁的被動地位。

但事實卻是即使是量子晶片，也還是需要光刻機！

目前，能實現量子優越性的只有我國和美國，美國的懸鈴木用的是超導，我國的九章用的是光學，也就是光量子晶片。

超導量子晶片是西方國家——尤其是美國比較偏愛的，它的製作工藝與傳統晶片的製造工藝很接近，簡單改進之後就可以生產超導量子晶片，工藝開發成本比較低，裝置方面當然也離不開光刻機，甚至需要最先進的極紫外光刻機。

而光量子晶片幾乎屬於全新賽道，傳統晶片是以電為載體的，而光量子晶片是以光作為載體的，這就像是刻刀，刀刃越薄，刻出來的線條越細，製作工藝就越尖端，而光子可比電子薄太多了。

可以說，超導量子晶片、傳統晶片都還屬於電子的天下，而光量子晶片幾乎已經是光子的天下了。

除此之外，光量子晶片還有一個優勢，那就是不依賴光刻機，但也只能說是不依賴，卻不是完全避開。

光量子的實現難度遠高於超導，需要的裝置也更復雜，比如：量子態調控裝置、單光子檢測器、鐳射光源、過濾裝置、波導等等等等，這些全部都是需要去研製升級開發的。

只看這些裝置，的確是不需要光刻機，但要只因此就說，光量子晶片完全繞開光刻機了，卻是不太現實。

首先就是供應鏈的問題，光量子晶片雖然依託光學，但它也需要微觀電路和各種零器件，生產這些可都是需要光刻機的。

其次，光量子晶片目前只能做到100奈米，傳統的光刻機就夠用，但我國乃至世界都還處在起步階段，誰知道未來光量子晶片會不會做到幾奈米，到時候會需不需要光刻機。

所以，不能說量子晶片可以完全避開光刻機，只能說光刻機不是光量子晶片的關鍵技術。

因此，我們要做的，就是趁著全世界都在起步的時候，加速發展，抓緊研製出一套獨立的光量子晶片製造供應鏈，將關鍵技術以及相關配件都牢牢的握在自己手裡。