國產晶片之所以難以突破瓶頸，說白了就是因為在晶片製造以及晶片製造過程之中，所必要的關鍵裝置光刻機上卡了脖子。

光刻機夢想即將成真

作為生產製造晶片的關鍵裝置，尤其是先進製程的晶片，對於高階EUV光刻機的需求更是非常多。目前來講，國內廠商暫時沒有辦法生產7nm、5nm等等先進製程的晶片，其實就是因為缺少EUV光刻機。

去年就有訊息傳來，國內最大的晶片代工廠商中芯國際將會在今年的4月份進行7nm的風險試產，可是現在已經進入到6月中旬依舊沒有任何訊息，個人猜測很大程度就是因為EUV光刻機沒有到貨。

短暫看來，美的規則應該不會再次進行修改，國內也基本沒可能會拿到先進光刻機的許可權。所以，這樣看起來，唯有我們將希望寄予在自己身上，才有可能真正完成在晶片上的自給自足。

國內的現狀是，各大企業都在不斷努力，比如華為就與中科院進行合作，把光刻機相關技術當作是優先攻克的課題，再加上國內最先進的光刻機廠商上海微電子現在也正在不斷努力，研發新一代的國產光刻機。

上海微電子不斷髮力

目前上海微電子的最先進光刻機能夠生產出90奈米晶片，比起ASML的差距，肉眼可見。不過值得一提的是，目前上海微電子研發的光刻機等等裝置，已經佔據了國內80%以上的市場，這一點還是非常值得慶幸的。

據說上海微電子的全新一代光尅能夠用於生產製造28到10奈米之間的晶片，甚至還能夠採用多重曝光技術生產7nm晶片，臺積電就曾經用阿斯麥的DUV光刻機實現了7奈米的量產，在EUV光刻機投用之後，又推出了7奈米的EUV工藝。

如今，國產先進光刻機再一次傳來了訊息，那麼這是否就意味著中芯國際的7nm有希望了呢？理論上來講，在經過多次曝光之後，這種DUV光刻機的確是能夠生產出先進的7nm光刻機的。

外媒最新報道稱，上海微電子新一代的光刻機將會在今年年底到明年年初進行量產下線，採用的是與阿斯麥DUV光刻機一樣的光源技術，只是不一樣的是，這種光源是國產的。

這種光源其實是科益虹源研發的，能夠用在DUV裝置上 ，這也就意味著，一旦上海微電子的新一代光刻機下線後，國內廠商就能利用這種光刻機元件國產28nm晶片生產線。

其實現在ASML就已經能夠向國內廠商出售DUV光刻機，上海微電子的光刻機在下線量產後，國內的廠商也都能夠向ASML購買DUV光刻機。從去年下半年開始，阿斯麥就不斷向著國內市場示好

阿斯麥果然沒說錯

進入到2021年之後，更是幾次向著國內市場示好，並且表示，限制向國內出售光刻機，會加速中國國內廠商自研光刻機技術，在3年左右，就能夠生產出國產先進光刻機了，並且，國產裝置向來都是物美價廉，如果國產光刻機出現，那麼阿斯麥在國內市場基本上就沒有立足之地了

這樣看起來國內廠商說的果然沒有錯，國產光刻機將會在今年年底或者是明年年初到來，到那個時候，國內所有的廠商將不會再需要阿斯麥的光刻機了，當然這裡說的是DUV光刻機，並不包括最先機的EUV光刻機

中國是全球最大晶片市場，對於光刻機的需求自然不用多講，目前阿斯麥的EUV光刻機不能出貨，如果DUV光刻機也被國產光刻機衝擊的話，那麼阿斯麥將會失去國內這個巨大的市場。而在晶片的問題上，國產光刻機一旦落地，7Nm也可以透過多次曝光，將這種晶片生產出來，屆時，不僅僅只有阿斯麥一家企業得不到中國市場，很多美企都難以在國內市場之中立足。