清華大學正式宣佈，光刻機光源問題被解決，所以想解決EUV光刻機還是要考靠清華等重點大學實驗室。清華大學公佈了基於SSMB的EUV光源技術，並通過了原理驗證試驗。該技術可用於EUV光刻機的光源設計，其效能已經滿足EUV光刻機的製造需求。而且由於該型別光源不僅具有高功率、高重頻、窄頻寬特性，更是直接覆蓋全部極紫外（EUV）波段，比現有的EUV光源效能更佳。

根據清華大學發表的研究論文報告稱，一種新型粒子加速器光源“穩態微聚束”的首個原理驗證實驗。該實驗除了可以為光子科學研究提供廣闊的新機遇外，也可以透過研究中的極紫外光源有望解決自主研發光刻機中最關鍵的“卡脖子”難題，加快我國自主研發光刻機的程序。

目前光刻機技術一直掌握在荷蘭公司手中，中國以及其他國家在此方面一直都未有較大突破，希望透過清華此次研究突破可以促進我國在光刻機上取得新發展

相信隨著國內在EUV光刻機技術上的佈局不斷深入，國產EUV光刻機的道路會越來越順利，當然也不能自大，畢竟EUV光源技術，只佔據了整臺光刻機光源的一部分，還有很多技術要突破。相信不久將來，國內能生產出自己的EVU光刻機，那時光刻機“白菜價”，晶片“沙子”價就能實現了。