數碼無需EUV,實現5nm,日企攻克光刻難題,給國產晶片超車提供新思路需要明白的是,日本鎧俠聯合研發的奈米壓印微影技術以取代EUV光刻機,只是初步嘗試,基本技術問題雖然已經解決,但對於一些細節問題,奈米壓印微影技術還有待完善,比如細微的塵埃將會影響該技術生產晶片的良品率問題...時間:2021-10-31標籤:光刻機 晶片 壓印 奈米 鎧俠
數碼對標WaveOptics的AR鏡片,“瓏璟光電”正式釋出衍射光波導模組中國的AR行業創業從2014年左右起步,近年來已經形成共識的是波導(Lightguide)方案是目前業內接受的主流,其中陣列波導(偏振薄膜陣列反射鏡波導,是幾何波導方案中的一種,代表公司是以色列的Lumus)、衍射波導(包括表面浮雕光柵波導...時間:2021-06-21標籤:波導 光柵 衍射 AR 壓印