數碼新一輪光刻膠戰爭打響Lam Research 乾式抗蝕劑技術的最大優勢之一是使用化學氣相沉積 (CVD) 工藝來沉積光刻膠,從而可以更精細地控制光刻膠的可變性和厚度...時間:2021-11-22標籤:光刻膠 EUV 工藝 抗蝕劑 Lam
數碼下一代EUV光刻機延誤?日本廠商緊急馳援TEL 公司董事、高階副總裁兼 SPE 業務部總經理 Yoshinobu Mitano 表示:“TEL 很榮幸在聯合研究實驗室與 imec 和 ASML 合作,以進一步瞭解和解決High NA EUV 在圖案化方面面臨的挑戰...時間:2021-06-10標籤:EUV Na 抗蝕劑 IMEC TEL