三星已經宣佈成功量產3nm製程工藝，成為行業內首個量產3nm製程的廠商，而且相比較5nm製程工藝，3nm製程工藝看起來更像是更新換代的產品，效能平均提升20%，而功耗也將降低35%。預計明年大家就可以看到三星全新的3nm製程工藝的產品了，當然作為半導體代工行業數一數二的企業，三星在製程更新上也不會停下腳步，據悉在3nm製程之後，三星就將迎來2nm製程工藝，預計在2025年正式量產。

相比較臺積電的製程工藝，三星的製程似乎從7nm開始就日漸落後，尤其是英偉達以及高通這兩個大客戶，採用三星的製程工藝之後，在能效比上並不盡如人意。也遭到了消費者的嘲諷，而三星之前表示將會在3nm製程工藝上採用GAAFET工藝而不是FinFET工藝，從而獲得更加出色的電晶體電氣效能。

相比較3nm製程工藝，三星的2nm製程工藝繼續採用GAA電晶體，不過結構得到進一步的提升與最佳化，從而讓單位能耗以及效能更加出色。當然現在距離2nm製程工藝還有三年多的時間，變數還比較大，不過與三星相比，臺積電的2nm製程似乎進展的不是很順利，相比較3nm製程效能提升大約在10%左右，那麼這一次三星便有可能借助2nm工藝實現對於臺積電的反超。