6月8日，東京電子（Tokyo Electron）宣佈公司將向同行業的荷蘭ASML和比利時的研究機構imec聯合運營的“imec-ASML high NA EUV實驗室”供應新一代裝置。

據悉，該裝置將與ASML的下一代EUV（極紫外）光刻裝置相組合，計劃於2023年投入使用。

與傳統的EUV光刻相比，high NA EUV光刻有望提供更先進的圖案縮放解決方案。

被引入high NA EUV聯合實驗室的塗布顯影裝置將具有先進的功能，不僅與廣泛使用的化學放大抗蝕劑和墊層材料相容，而且還可以與含金屬抗蝕劑相容，含金屬抗蝕劑已顯示出高解析度和高耐蝕性的優點，並有望實現更精細的圖案化。

然而，其也需要精密複雜的圖案尺寸控制以及晶圓背面和斜面上的金屬汙染控制。為了應對這些挑戰，在high NA EUV聯合實驗室安裝的塗布顯影裝置配備了能夠處理含金屬抗蝕劑的前沿工藝模組。

結合新的工藝模組，東京電子塗布顯影裝置的單個單元可以線上處理多種材料，包括化學放大抗蝕劑、含金屬抗蝕劑和墊層材料。這將實現靈活的晶圓廠運營，同時實現更高的生產力和高可用性，這是該塗布顯影裝置的優勢之一。

利用其產品跨越多個相鄰工藝的廣度，東京電子正在與抗蝕劑材料供應商建立合作伙伴關係，以提供涵蓋蝕刻工藝以及光刻工藝的塗布顯影裝置的全面圖案化解決方案。

東京電子公司董事、高階副總裁兼SPE業務部總經理Yoshinobu Mitano表示

：“透過利用我們在EUV光刻工藝技術的大批次製造方面的經驗，我們打算及時向客戶的晶圓廠提供high NA EUV工藝解決方案。”

東京電子副總裁兼CTSPS BU總經理Keiichi Akiyama評論說

：“作為目前在EUV 光刻線上塗布顯影裝置中佔有100%市場份額的製造商，我們期待與聯合high NA實驗室合作，為下一代high NA EUV光刻機實現最先進的塗布顯影裝置。”

東京電子總裁兼執行長Toshiki Kawai（左）和imec總裁兼執行長Luc Van den hove博士在遠端簽署MOU（諒解備忘錄），將先進的塗布顯影裝置引入imec- ASML聯合high NA EUV實驗室。

東京電子，簡稱TEL，是Tokyo Electron Limited的簡稱，是日本最大的半導體制造裝置提供商，也是世界第三大半導體制造裝置提供商。主要從事半導體制造裝置和平板顯示器製造裝置的研發和生產，全球擁有1。1萬名員工。

東京電子的產品幾乎覆蓋了半導體制造流程中的所有工序，其主要產品包括：塗布/顯像裝置、熱處理成膜裝置、幹法刻蝕裝置、CVD、溼法清洗裝置及測試裝置。

你可能會喜歡的