隨著時間的推移，隨著科技的發展，在不知不覺中，高通火龍的出世，意味著晶片先進製程已經來到了四奈米的節點。按照正常來說，這樣的晶片製程節點，已經即將就要觸頂摩爾定律的極限。

但是，總有些不甘心的企業和機構，總想著要如何為摩爾定律續命。比利時一家機構放出了大動作，直指1奈米以下工藝路徑。看樣子，摩爾定律似乎是不會終結了，那麼，這樣一來，對阿斯麥爾而言究竟有怎樣的影響呢？

如今，這1奈米以下的路徑僅僅只是紙上的文字而言，未來，要想成功突破，究竟要如何實現呢？

延續有望，1奈米以下工藝路徑突破

2022年5月23日，在比利時安特衛普召開了未來峰會，在這次峰會上，比利時微電子研究中心釋出了一份報告，這份報告探討的是2036年左右的半導體工藝、技術路線圖。當然，這份半導體工藝發展路線圖僅僅是初步投產，並非是量產。

比如在這份路線圖上標註的N3 3奈米，其實對應的是2022年。沒錯，就是今年，但是，今年全球根本就沒有3奈米的實際產品。

當然，這個路線圖僅僅是普遍而言的，不同廠商的發展路線也是不一樣的，比如英特爾還發展了一個A18，臺積電直接就跳過N3。

從這份路線圖，可以看出如今摩爾定律可以說是突破有望。可能還有人會對這份資料表示質疑。這份資料其實應該是非常權威的。比利時微電子研究中心是全球權威半導體研究機構，研究的方向包括微電子、奈米技術、資訊通訊技術、封裝工藝等方方面面。

因此，就這個訊息來看，摩爾定律肯定會走到極限，但是如今似乎有延續生命的可能。那麼，在摩爾定律似乎不會這麼快走向終結的今天，對於阿斯麥爾而言，究竟會迎來怎樣的春天呢？

摩爾定律不會終結，阿斯麥爾的春天來了！

摩爾定律如今還能延續很長一段時間，最開心的莫過於就是阿斯麥爾了。目前，阿斯麥爾正在緊鑼密鼓地部署Na值為0。55的新一代，更加先進的EUV光刻機。這意味著什麼呢？目前阿斯麥爾的EUV光刻機，Na值其實為0。33，這樣的數值註定了阿斯麥爾當前的EUV光刻機僅僅只能夠生產7奈米、5奈米之類的。

一旦阿斯麥爾Na值為0。33的新型EUV光刻機落地之後，估計未必不能挺進到1奈米甚至1奈米以下。在阿斯麥爾仍舊有發展市場的當下，阿斯麥爾的春天未必就沒有來臨。

另外，如今，在晶片製程上面，根本就離不開阿斯麥爾的光刻機。如今，摩爾定律不會終結，這也就意味著未來阿斯麥爾光刻機的消費市場依然廣闊。在晶片先進製程摩爾定律如今不會這麼快走向終結的情況下，未必不是阿斯麥爾的春天。

總之，個人覺得，摩爾定律在晶片先進製程方面沒有這麼快走向終結，對於阿斯麥爾，對於我國都是一件好事，畢竟就我國而言，至少不會拉大和世界，和全球的差距。但是，科技的發展是不會停滯不前的，如今既然有了這個方向，未來究竟是否有落實的可能呢？

1奈米以下工藝路徑的突破未來是否能實現？

說起1奈米以下先進製程工藝路線突破的實現，那麼，作為全球生產裝置光刻機巨頭的阿斯麥爾自然是其中的中堅力量。2022年5月13日，阿斯麥爾在自己當天釋出在公眾號上面的文章中表示。

在元器件方面，目前的技術足夠將晶片的製程推進到至少1奈米之後，光刻系統解析度的改進和邊緣放置誤差對精度的衡量也將進一步推動晶片尺寸縮小的實現。看樣子，阿斯麥爾似乎是信心滿滿，未必不能夠實現1奈米以下工藝路徑的突破。

另外，如今在光刻機方面，還是有很多企業崛起的，比如曾經的光刻機巨頭佳能，根據日經中文網2022年4月1日報道，目前日本佳能正在研發使用半導體3D技術的光刻機，據說這臺採用新型技術的光刻機。在曝光面積方面可是目前普遍EUV光刻機的四倍。看樣子，在1奈米以下工藝路徑的裝置突破中，阿斯麥爾並不是孤軍奮戰，因此，1奈米以下工藝路徑要想成為現實，其實也並非不能實現。

總結

1奈米以下工藝路徑的公佈，意味著未來，1奈米的先進晶片製程工藝，再也不是摩爾定律的極限，再也不是摩爾定律發展的懸崖。晶片先進製程的摩爾定律，似乎還能堅持一段不短的時間。

不過，目前這樣美好的設想，其實也還沒有成為現實，其實目前也不過是紙上談兵。但是，我相信，就全球在半導體領域這樣的科技水平，未來其實也未必沒有成為現實的希望和可能。但是，就我國而言，還是需要不斷加大科研投入，爭取早日跟上世界水平，爭取早日讓卡脖子，徹底成為過往的雲煙。