做模型，三分製作七分修改，提高模型的修改餘地就是引入所謂非破壞性建模的目的。這方面站在頂點的當然是houdini程式化建模，但這對於一個做角色的來說門檻實在太高了點。

今天要分享的是幾個依然以人見人愛的zb（版本不低於2021）為中心的，簡單實用的小技巧，可能算不上完全的非破壞性流程，但可以降低我們模型的修改難度。

1 利用nanomesh擺放重複部件

此功能可以同步修改重複的部件，也可以替換模型，非常實用

使用方法：選中要擺放的subtool，然後點選 宏-建立例項子工具，即可一鍵建立nanomesh和對應的片面，然後隨意複製（ctrl+移動）擺放。當然也可以用先在目標位置建立片面，再建立nanomesh筆刷進行擺放的傳統方式。

需要修改模型時點選nanomesh選單的“編輯網格”，這時可以在右邊的視窗任意修改，也可以用插入筆刷插入新的模型，用刪除面的方式刪除原來的模型（比如修改拓撲-刪除隱藏），從而實現模型替換。修改完之後記得點選編輯網格退出編輯模式。

如果不小心在編輯網格的過程中點了其他subtool，可以將“變換”-“分屏”改為0來退出分屏模式

需要注意的是此功能不支援映象模型，需要對稱擺放的情況可以用“修改拓撲”-“映象並焊接”命令映象片面，但模型只是擺放在對稱的位置，並非映象。如果朝向不對，可以用zmodeler筆刷的“旋轉邊緣”來旋轉片面

2 用動態細分預覽並建立厚度

一些片狀模型一旦擠出了厚度就會給修改帶來一定的麻煩，比如需要雕刻的布料等等，使用這個功能可以在不擠出厚度的前提下預覽擠出後的效果，在任何階段調整片面厚度，結合折邊和後細分表面選項還可以調整邊緣的平滑度，也可以在最終階段塌陷為擠出厚度的模型。

3 使用置換貼圖建立細節

這個方法大家都很熟悉，但是實際使用中其實有很多妙用可以挖掘。建議大家再稍微學一下substance designer，更是如虎添翼。

比如縫線這個東西，無論你雕刻還是卡線，做完之後如果修改布褶總會受影響，如果用置換貼圖來做就百毒不侵了，還可以隨時調整它的粗細深淺疏密，只需要給高模展個uv而已，不費勁吧。到了烘焙階段還可以轉一張黑白圖，貼在高模上得到想要的id。