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EUV光刻機不供貨中國,中國專家胡偉武坦言:不需要,14nm就夠了

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市面上隨處可見的都是高階晶片,並且隨著手機、平板、電腦等裝置的出貨量大漲,高階晶片的市場規模還會變得更高。

可是我國要想生產高階晶片的話,是需要EUV光刻機的。但目前為止EUV光刻機還無法順利採購,而中國專家坦言不需要。發生了什麼?國產半導體該如何發展呢?

EUV光刻機不供貨中國,中國專家胡偉武坦言:不需要,14nm就夠了

01

EUV光刻機暫無法自由供貨

光刻機是造晶片不可或缺的裝置,在晶片製造產業中,最頂級的光刻機就是EUV極紫外光,號稱是人類工業皇冠上的明珠。

這個評價並不為過,因為EUV光刻機集成了來自全世界的頂尖技術,每一個零部件都是經歷千錘百煉,背後近5000家供應商均為行業翹楚。

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世界各國紛紛參與了EUV光刻機的製造和打磨,看似是荷蘭ASML這家光刻機廠商生產的,但其實ASML也只是負責把這些技術組裝起來而已。由於涉及到的技術過多,大部分專利都不是ASML持有,所以對於EUV光刻機的出貨市場這方面,ASML一家公司說了不算。

根據ASML中國區總裁沈波表示,目前只有EUV光刻機無法向中國客戶提供,其它產品都可以正常發貨。

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ASML看似是在宣揚DUV等其它裝置可以發貨,但實際上重點在於EUV光刻機不供貨中國。當然,並不是ASML不想發貨,因為ASML使用了大量的國外技術,受到某些國家規則的束縛,如果想出貨就得拿到許可,否則ASML在中國市場只能以銷售DUV光刻機為主了。

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臺積電,三星都掌握了高階7nm至5nm的量產工藝,而且還在全力部署更先進的4nm,3nm,預計未來幾年內將實現量產。而大陸最先進的晶片製造商中芯國際掌握了14nm的量產工藝技術,良率已達業界水準,和臺積電一致。

但再往下的7nm,5nm等工藝製程,就得用上EUV光刻機了。晶片製造技術可以突破,但沒有相應設計工具的話,是無法將技術工藝發揮出來的。

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就好比一名高階程式設計師,掌握了高超的編寫程式能力,但如果電腦非常低端,頻繁宕機、藍色畫面、卡頓的話,就算能力再強,也得不到發揮。現在的問題在於,這名高階程式設計師用不上頂級的電腦,所以只能眼睜睜看著持有頂配電腦的人遙遙領先。

02

中國專家:不需要

光刻機的晶片製造產業的重要性不言而喻,沒有光刻機,一顆晶片都造不出。如果沒有EUV光刻機,也無法生產出高階晶片。

可就在別人轟轟烈烈發展高階晶片產業鏈的時候,中國專家卻發出了不一樣的聲音,龍芯總設計師胡偉武認為不需要太高階的製程,14nm就夠了。

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胡偉武這句話在業界引起不小的波瀾,還遭到了不少人的反駁。認為別人都在做7nm,5nm,為什麼我們14nm就夠用了。這究竟是不思進取還是未戰先怯,那麼發生了什麼?胡偉武的話到底是什麼意思呢?

其實結合當下我國的半導體環境來看,胡偉武的話不無道理。

首先

14nm

製程的確涵蓋了生活中大部分的使用場景,

只有少數電子消費產品才用得上

7nm

5nm

比如在智慧汽車領域,28nm,14nm就已經是非常高端了。因為這類產品不需要太過精細的晶片,它的產品面積可容納更大,更多的電晶體,完全可以把矽片晶圓做得更大一些。

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而智慧手機的面板每一平方釐米都非常珍貴,所以會把晶片做得和指甲蓋大小一樣,在有限的空間追求更強大的效能表現,自然對製程工藝有更高的要求。

但電子消費市場不是所有,行業83%的需求都集中在10nm以上。這點來看,14nm確實夠用,大部分的產業需求都能得到滿足。

其次

胡偉武是希望國產半導體以揚長避短的方式進行發展,別人做

,我們在做之前也要考慮能不能做到。

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不僅要掌握相應的製造工藝,攻克一系列的生產難題,還要從國外進口必不可少的EUV光刻機。

如果這兩點都無法做到的話,那還不如發揮自己在成熟工藝領域的長處。先佔據這部分的市場份額,獲得足夠的營收利潤保障時,才有能力投入到更先進的製程工藝研發專案當中。

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而不是盲目地別人做什麼,自己也跟著做什麼。東施效顰之所以適得其反,就是因為模仿的那個人還不具備相應的條件,自然會失敗。所以我們要走自己的路,去找到一條適合自己的發展道路,至少在當下的國產半導體環境中,14nm的確已經夠用了。

胡偉武指出了國產半導體發展的關鍵,揚長避短才是我們要做的。所以在這樣的情況下,EUV光刻機能不能供貨中國,本質上並沒有太大的影響。

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03

總結

一個產業的發展是需要循序漸進的,就算這時候ASML可以自由出貨EUV光刻機,我國企業也能順利購買。但是其它的高階產業鏈可能仍需要從國外進口技術,到時候又面臨同樣的供貨難問題。

所以最好的方式是加強自主可控的產業鏈實力,做好自己該做的,避免受制於人。

對此,你有什麼看法呢?

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