5月 20日，荷蘭 ASML 公司製造新一代EUV光刻機，登上熱搜。

EUV，即 ASML 最先進的機器所使用的光波波長，指的是電磁波譜中波長從 121 奈米到 10 奈米的電磁輻射所在的頻段。ASML CEO 彼得·溫寧克（Peter Wennink）告訴媒體，過往 10 年間該公司已出售大約 140 臺 EUV 光刻機，單價約 2 億美元一臺。

據報道，ASML 正製造新款極紫外光線（EUV，extreme ultraviolet）光刻機，預計每臺售價約 4 億美元，或將在 2023 年上半年完成製造，並有望在 2025 年用於晶片供應商。

為了實現在2nm世代製造更精細的半導體，我們需要具有高產能和高數值孔徑 （High-NA） 的下一代 EUV 曝光系統。

據悉，該光刻機重達 200 多噸，有“雙層巴士”那麼大。據報道，ASML正製造新款極紫外光線（EUV）光刻機，預計每臺售價約4億美元，或將在2023年上半年完成製造，並有望在2025年用於晶片供應商。

ASML希望從2024年起在客戶工廠安裝該機器。ASML宣佈，即將推出的EUV已經有五家以上的客戶訂購。該機器有望使晶片電路減少66%。

ASML與imec正在討論更深度的合作，未來推出1nm以內的光刻機。且2036年可製作0.2nm晶片。

下圖為imc提供晶片製程路線圖

接著看路線圖，IMEC預計在2028年實現A10工藝，也就是1nm節點了，2030年是A7工藝，之後分別是A5、A3、A2工藝，2036年的A2大概相當於0。2nm節點了。

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