廣信材料：光刻膠產品已收到部分廠商測試結果，符合工藝要求
時間：2021-10-09
標簽：光刻膠
上海新陽KrF光刻膠獲新突破！
上海新陽表示，隨著國內晶圓廠建設的不斷增多，以及國外光刻膠巨頭產能受限，供需緊張，國內對光刻膠產品的需求也將快速增長，公司光刻膠產品的訂單取得意義重大...
時間：2021-09-23
整合| 5.14億美元，全球半導體材料領域新添併購案
9月17日，日本半導體材料製造商JSR株式會社宣佈，將收購總部位於美國俄勒岡州科瓦利斯的Inpria，後者為世界領先的極紫外 （EUV） 光刻金屬氧化物光刻膠設計、開發和製造廠商...
時間：2021-09-18
國產光刻膠迎來歷史性機遇
時間：2021-03-17
三星、SK 海力士正在研究使用韓國產半導體制造裝置、材料
三星電子正在測試一家韓國廠商的 EUV 光刻膠樣品，有訊息稱三星將在今年下半年開始使用這種光刻膠，用於其 14nm 工藝 DRAM 生產...
時間：2021-08-23
彤程電子 總經理 張旭東確認演講《半導體光刻膠核心原料國產化方向》——2021勢銀光刻膠產業大會
時間：2021-06-18
南大光電ArF光刻膠產品拿下首個小批次訂單
此前，南大光電於5月31日釋出公告稱，其控股子公司寧波南大光電材料有限公司自主研發的ArF光刻膠產品在邏輯晶片製造企業55nm技術節點的產品上取得了認證突破...
時間：2021-06-17
新材料行業下半年投資策略：半導體材料、碳纖維、高階鈦材
時間：2021-06-17
日本製造已經被中國反超？大家別被迷惑了，瘦死的駱駝比馬大
時間：2021-06-09
再現斷供！缺不得的光刻膠
國內在半導體高階光刻膠發展較好的上市企業主要有四家，分別是晶瑞股份、容大感光、上海新陽、南大光電...
時間：2021-05-28
國產光刻膠巨頭“南大光電”獲得首批來自於國外的ArF光刻膠訂單
值得一提的是，南大光電出口的這批ArF光刻膠是被用於90奈米到7奈米甚至7奈米以下晶片製程的關鍵原料...
時間：2021-08-31
CPU 是如何製造出來的？高畫質圖解
設計每一步過程的所需要的資料量都可以用10GB的單位來計量，而且製造每塊處理器所需要的刻蝕步驟都超過20步（每一步進行一層刻蝕）...
時間：2021-06-20
國產光刻機迎突破，日本宣佈斷供光刻膠，國產替代品將迎提速
時間：2021-06-22
30 張圖，概覽 CPU 製作全過程
設計每一步過程的所需要的資料量都可以用 10GB 的單位來計量，而且製造每塊處理器所需要的刻蝕步驟都超過 20 步（每一步進行一層刻蝕）...
時間：2021-06-24
晶片製造的10大關鍵工藝步驟
8、離子注入在去除剩餘的光刻膠之前，可以用正離子或負離子轟擊晶圓，對部分圖案的半導體特性進行調整...
時間：2021-06-24
華為“雙芯疊加”專利曝出！國產芯也傳來好訊息，專家溫曉君：可以量產
根據業內專家溫曉君的說法，國產晶片發展已經迎來最好時刻，預計國產14nm晶片明年底可以實現量產，並認同行業預判，國產28nm晶片也將於今年之內量產...
時間：2021-06-24
打破壟斷！國產光刻膠巨頭拿下關鍵訂單
然而，國產晶片供應鏈正在補足，不僅能夠由國產企業參與制造晶片，其背後光刻膠，光刻機等材料，裝置供應鏈都能透過中國企業自研的技術來實現滿足...
時間：2021-07-05
日企掐住關鍵材料，卻倒逼國產光刻機崛起，韓國巨頭也開始反擊
韓國巨頭開始反擊不只是中國企業，韓國巨頭三星SDI也在半導體光刻膠領域發力，力求擺脫對日本企業的依賴...
時間：2021-06-25
日本斷供光刻膠，給了國產替代機會
最後日本如今在我國科技發展的緊要關頭對我國斷貨，其目的是什麼就得咱們自己去猜測了...
時間：2021-06-22
重要性比肩光刻機，國產光刻膠實現突破，可生產14nm晶片
但實際上，除了光刻機外，還有不少核心材料在晶片的製造過程中也至關重要，光刻膠就是其中之一...
時間：2021-06-21