ASML官宣全新光刻機問世,支援2nm晶片製造,2022年出貨英特爾
拿臺積電來說,EUV的耗電量是DUV的10倍以上,在透過對機器的改進以及對大資料的分析,將能源使用效率提升了5%,但還是遠遠不夠,這才有了對High NA裝置的研發...
時間:2021-12-14
拿臺積電來說,EUV的耗電量是DUV的10倍以上,在透過對機器的改進以及對大資料的分析,將能源使用效率提升了5%,但還是遠遠不夠,這才有了對High NA裝置的研發...
時間:2021-12-14
55NA的下代EUV光刻機一號試做機(EXE:5000)會在2023年由ASML提供給imec,2026年量產...
時間:2021-12-13
要知道,EUV光刻機本身就產能不足,目前還積壓了幾十億歐元的訂單,臺積電和美光合作生產儲存晶片後,ASML自然是優先將EUV光刻機供貨給臺積電...
時間:2021-12-13
但沒有想到的是,EUV光刻機出貨又面臨新的約束,其不能出貨安裝外企中國分廠,這對於ASML和三星、SK等晶片製造巨頭並不是一個好訊息...
時間:2021-11-29
對於我國這三項專利的突破,可能很多人會認為,我國是不是也能實現EUV光刻機的國產...
時間:2021-12-02
要知道,EUV光刻機本身就產能不足,目前還積壓了幾十億歐元的訂單,臺積電和美光合作生產儲存晶片後,ASML自然是優先將EUV光刻機供貨給臺積電...
時間:2021-12-13
阿斯麥是世界上唯一一家能夠製造最先進晶片所需的高度複雜機器——EUV光刻機的公司...
時間:2021-11-26
阿斯麥是世界上唯一一家能夠製造最先進晶片所需的高度複雜機器——EUV光刻機的公司...
時間:2021-11-26
據悉,藉助2nm工藝幫助,IBM成功將500億個晶圓體容納在了指甲大小的晶片上...
時間:2021-11-27
無論是三星還是SK等晶片企業,都計劃在武漢、西安等城市新建工廠,倘若EUV光刻機無法安裝到國內分廠,這意味三星、SK以及臺積電等建廠擴產就會受到影響...
時間:2021-11-22
Lam Research 乾式抗蝕劑技術的最大優勢之一是使用化學氣相沉積 (CVD) 工藝來沉積光刻膠,從而可以更精細地控制光刻膠的可變性和厚度...
時間:2021-11-22
這樣做,不但可以為家長們省下更多的陪讀時間,而且還可以幫助孩子們建立起一套科學的思維方式,培養起學習科學的興趣,為以後步入初高中的“數理化”學習,打下良好的知識基礎...
時間:2021-11-01
更何況,三星作為全球第一大快閃記憶體晶片廠商,第二大晶片代工企業,其想要更多EUV光刻機,結果都沒貨,ASML不得不在韓建設EUV光刻機再製造工廠...
時間:2021-11-19
時間:2021-11-05
NIL比拼EUV由於EUV裝置太過昂貴,且生產難度很高,近些年,業界一直在尋找其它辦法,不用EUV光刻機,能不能生產7nm及以下的晶片...
時間:2021-11-09
10月底,英特爾釋出的12代酷睿不僅採用了全新的“大小核”架構,製程工藝也升級到了Intel 7(之前的10nm SuperFin工藝,相當於臺積電7nm工藝)...
時間:2021-11-12
NIL比拼EUV由於EUV裝置太過昂貴,且生產難度很高,近些年,業界一直在尋找其它辦法,不用EUV光刻機,能不能生產7nm及以下的晶片...
時間:2021-10-29
時間:2021-10-27
55NA 技術有望在未來 6 年內達到極限,因此半導體制造商將能夠再次使用 multi-patterning 進一步提高電晶體密度並實現更多複雜的工藝節點...
時間:2021-11-05
而臺積電也為了改善成本,針對極紫外光(EUV)技術推動改善計劃,以及改良EUV機臺設計,還有匯入先進封裝,讓3nm製程有更多的客戶願意採用...
時間:2021-11-09