三星將量產GAA技術3納米制程,客戶名單曝光
有訊息人士透露,三星稱有客戶訂購3奈米產能,名稱也曝光,除了中國虛擬貨幣挖礦機晶片設計公司上海磐矽半導體 (PanSemi),移動處理器大廠高通 (Qualcomm) 也下訂3奈米產能...
時間:2022-06-29
有訊息人士透露,三星稱有客戶訂購3奈米產能,名稱也曝光,除了中國虛擬貨幣挖礦機晶片設計公司上海磐矽半導體 (PanSemi),移動處理器大廠高通 (Qualcomm) 也下訂3奈米產能...
時間:2022-06-29
比如2個柵極1個鰭片,可以效能提升11%、功耗降低30%、面積縮小36%...
時間:2022-06-17
時間:2021-04-13
時間:2020-08-21
時間:2022-03-11
由圖2可知,若在IGBT的柵極和發射極之間加上驅動正電壓,則MOSFET導通,這樣PNP電晶體的集電極與基極之間成低阻狀態而使得電晶體導通...
時間:2022-03-08
為了減少亞閾值洩漏,需要一種器件拓撲結構,其中柵極輸入對通道提供更大的靜電控制...
時間:2022-03-04
多數情況下,該du/dt值要比IGBT正常關斷時的集電極發射極電壓上升率高,由於米勒電容( Cres)的存在,該du/dt值將 在集電極和柵極之間產生一個 瞬間電流,流向柵極驅動電路...
時間:2020-07-24
不過,由於系統的非理想性(例如功率器件的非理 想開關,其中完成電壓和電流轉換可能需要數百納秒 的時間),立即進行 DESAT 檢測可能會導致不精確的 故障觸發...
時間:2022-02-17
一、電平箝位自舉驅動電路不能產生負偏壓,如果用於驅動橋式電路,在半橋電感負載電路下執行,處於關斷狀態下的IGBT由於其反並聯二極體的恢復過程,將承受集電極-發射極間電壓的急劇上升...
時間:2021-12-28
計算功率損耗時,需要考慮柵極源極間電壓和漏極電流,選擇適合的導通電阻...
時間:2021-05-03
金氧半導體場效應電晶體(MOSFET,即微處理器中使用的電晶體)自1959年誕生以來,其形狀和材料都發生了變化,但基本結構(柵極疊層、溝道區域、源極和漏極)一直保持不變...
時間:2021-08-08
時間:2019-11-07
I DSS :飽和漏源電流,柵極電壓 V GS =0 、 V DS 為一定值時的漏源電流...
時間:2020-11-10
排水管之間的過電壓保護:如果電路中存在電感負載,當裝置關閉時,漏極電流(di/dt)的突然變化將導致漏極電壓超調,這遠遠高於電源電壓,從而導致裝置損壞...
時間:2020-07-20
時間:2021-12-20
如下為 VTFET 晶圓示意圖:在新的維度:重新定義摩爾定律的邊界當今,主流的晶片架構採用橫向傳輸場效應電晶體(FET),例如鰭式場效應電晶體(FinFET),因矽體類似魚背鰭而得名...
時間:2021-12-15
在上個世紀,人類製造的所有晶片的電晶體都採用了這種結構,柵極的厚度也就是晶片的製程工藝...
時間:2021-12-15
不過當到達14奈米的時候,隔離層材料二氧化矽厚度不夠,控制能力就會變差,電流流過會產生流失,導致晶片的功耗過高,增加熱量,訊號失真的問題...
時間:2019-11-09
時間:2021-11-16